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多项选择题
外延在半导体生产中的作用是（）
A.实现杂质浓度突变
B.优化衬底材料性能
C.设计更加灵活
D.让硅片更厚 -
多项选择题
CMP工艺的三大关键因素是（）
A.抛光机
B.抛光液
C.抛光盘
D.抛光垫 -
多项选择题
影响CMP质量的因素有（）
A.抛光压力
B.抛光液PH值
C.转速
D.抛光区域温度
