相关考题
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多项选择题
属于绝缘介质膜的是（）
A.砷化镓
B.二氧化硅
C.氮化硅
D.多晶硅 -
多项选择题
为减少自掺杂现象，可以采取的措施有：（）
A.衬底背面用高纯硅或二氧化硅覆盖
B.用两步外延法
C.低压外延法
D.降低外延生长温度 -
多项选择题
PVD的种类有（）
A.真空蒸镀
B.等离子体
C.溅射
D.二氧化硅
