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多项选择题
先进的光刻技术有（）
A.EUV曝光
B.电子束光刻
C.X射线光刻
D.纳米压印技术 -
多项选择题
光刻胶的主要性能指标有（）
A.灵敏度
B.分辨率
C.抗蚀性
D.黏附性 -
多项选择题
光刻胶的主要成分有（）
A.感光剂
B.溶剂
C.聚合物材料
D.胶水
