单项选择题
对于浓度覆盖很宽的杂质原子,可以采用()方法引入到硅片中。
A.离子注入 B.溅射 C.淀积 D.扩散
单项选择题 扩散工艺现在广泛应用于制作()。
多项选择题 扩散工艺在现在集成电路工艺中仍然是是一项重要的集成电路工艺,现在主要被用来制作()。
多项选择题 扩散工艺使杂质由半导体晶片表面向内部扩散,改变了晶片(),所以晶片才能被人们所使用。