单项选择题
化学气相沉积的基本步骤包括以下五步，其顺序正确的是（）① 反应物由主气流扩散到衬底表面② 参加反应的气体与混合物被运送到沉积区③ 反应物分子吸附在衬底表面上④ 反应副产物分子从衬底表面解吸，扩散到主气流中，排出沉积区⑤ 吸附物分子间或吸附分子与气体分子间发生反应，最终形成薄膜
A.②①③⑤④B.②①⑤④③C.②①⑤③④D.②①③④⑤
单项选择题 APCVD、LPCVD、PECVD、HDPCVD分别是（）的简称。
单项选择题 低压化学气相淀积的英文缩写是（）
单项选择题 在高温下洁净的硅片表面和氧化剂发生反应生成二氧化硅薄膜的方法是（）
