单项选择题
APCVD、LPCVD、PECVD、HDPCVD分别是（）的简称。
A.常压化学气相淀积、低压化学气相淀积、等离子体增强型化学气相淀积、高密度等离子体化学气相淀积B.常压化学气相淀积、低压化学气相淀积、高密度等离子体化学气相淀积、等离子体增强型化学气相淀积C.低压化学气相淀积、常压化学气相淀积、等离子体增强型化学气相淀积、高密度等离子体化学气相淀积D.常压化学气相淀积、等离子体增强型化学气相淀积、低压化学气相淀积、高密度等离子体化学气相淀积
单项选择题 低压化学气相淀积的英文缩写是（）
单项选择题 在高温下洁净的硅片表面和氧化剂发生反应生成二氧化硅薄膜的方法是（）
单项选择题 以下属于金属膜的是（）
