问答题
试根据5次光刻的工艺流程绘制等效电路。
1）第一次光刻栅线，工艺流程是：溅射前清洗→AlNd/Mo溅射→涂胶→曝光→显影......
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问答题 试分析在背沟道阻挡结构的第二次光刻中，采用了背曝光为什么还要采用一次曝光？直接使用一次曝光不行吗？
问答题 试分析如何减少绝缘膜的针孔及工业上采用的方法。
问答题 试分析4次光刻中第2次光刻的工艺方案。
