问答题
试分析在背沟道阻挡结构的第二次光刻中，采用了背曝光为什么还要采用一次曝光？直接使用一次曝光不行吗？
背曝光是一种自对准的光刻工艺，不需要掩膜版，利用栅线和栅极的金属图形做掩膜进行曝光的工艺。栅线、栅极、存储电容等有金属薄......
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问答题 试分析如何减少绝缘膜的针孔及工业上采用的方法。
问答题 试分析4次光刻中第2次光刻的工艺方案。
问答题 试分析背沟道刻蚀型的5次光刻中过孔的工艺难点。
