问答题
简述PECVD设备的特点。
P.ECVD设备的优点：1）可以大面积均匀成膜、生长性好、能在较低的温度下形成致密的薄膜；2）可......
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问答题 简述PECVD薄膜沉积的原理。
问答题 简述溅射成膜的原理，并举例说明哪种薄膜采用溅射方法成膜。
问答题 简述阵列工艺的基本工艺流程。
