相关考题
-
单项选择题
PVD是指（）
A.物理汽相淀积
B.等离子体
C.汽相外延
D.二氧化硅 -
单项选择题
化学汽相淀积的英文缩写是（）
A.VPE
B.CVD
C.PVD
D.LASER -
单项选择题
以下属于新应用/新需求驱动产生的芯片公司是（）
A.海思
B.寒武纪
C.汇顶
D.兆芯
