欢迎来到建筑考试题库网
建筑考试题库官网
登录
注册
首页
注册建造师
注册建筑师
消防工程师
造价工程师
注册环保工程师
全部科目
>
大学试题
>
工学
>
电子与通信技术
>
集成电路技术
>
集成电路技术综合练习
搜题找答案
判断题
LPCVD多晶的反应气体是二氯二氢硅。
【参考答案】
错误
(↓↓↓ 点击‘点击查看答案’看答案解析 ↓↓↓)
点击查看答案&解析
上一题
目录
下一题
相关考题
判断题
氮化硅去除使用的是磷酸药液。
判断题
驻波效应破坏了光刻胶图形侧壁的垂直性,也导致光刻胶CD测量的不稳定。
判断题
硅片边缘匀胶后出现毛边异常,是因为EBR药液量不足。
关注
顶部
微信扫一扫,加关注免费搜题