欢迎来到建筑考试题库网
建筑考试题库官网
登录
注册
首页
注册建造师
注册建筑师
消防工程师
造价工程师
注册环保工程师
全部科目
>
通信电子计算机技能考试
>
平板显示技术考试
搜题找答案
问答题
简答题
简述5次光刻的工艺流程。
【参考答案】
栅极→a-Si:H有源岛→源漏电极、n
+
a-Si沟道切断→SiN
x
保护膜、过孔→ITO像素电极。
点击查看答案
上一题
目录
下一题
相关考题
问答题
简述背沟道阻挡结构的优缺点。
问答题
简述背沟道刻蚀型结构的优缺点。
问答题
从电导率的角度思考,如何能制作出高性能的薄膜晶体管?提高载流子浓度可以吗?
关注
顶部
微信扫一扫,加关注免费搜题