单项选择题 光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。

多项选择题 超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。

单项选择题 在集成电路工艺中，光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是（）。