判断题 使用化学腐蚀法检查针孔时，硅表面的腐蚀坑数目就是二氧化硅的针孔数目（）

判断题 薄膜制备的方式中，CVD不消耗衬底材料。

判断题 溅射常用的等离子体是用氩气离化的。