单项选择题 常用的干法去胶方法有（）

单项选择题 湿法刻蚀中，（）的腐蚀液是以氢氟酸为基础的水溶液。

单项选择题 （）可以利用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料，从而把光刻胶上的图形转移到薄膜上的过程。